TEM窗格
| TEM薄膜窗口是利用MEMS技術(shù)制備而成，由于此種窗口選用低應(yīng)力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比計(jì)量式薄膜更堅(jiān)固耐用。甫一提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域，例如，X-射線、TEM、SEM、IR、UV等。 |
尺寸規(guī)格
3 mm x 3 mm （窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：50 nm） 3 mm x 3 mm （窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm） 3 mm x 3 mm （窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：100 nm）? 邊框厚度： 200μm、381μm Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm |
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